Характерные особенности
- Малая ширина линии генерации излучения
- Перестройка линии генерации ±40 пм
Применения:
Безмасочная литография, основаная на использовании управляемых микро-электро-оптико-механических систем (МЕОМС).
Спецификация
| Длина волны | 248.4 нм |
| Частота повторения лазерных импульсов (регулируемая) | 0 – 1000 Гц |
| Энергия в импульсе | 5 мДж |
| Ширина спектра излучения (по уровню FWHM) | < 3 пм |
| Ширина спектра излучения (по уровню 10%) | < 6 пм |
| Относительная нестабильность энергии импульсов (сигма по выборке 1000 импульсов) | < 3 % |
| Длительность импульса лазерного излучения (по уровню FWHM) | 7 – 12 нс |
| Размеры выходного пятна излучения (по уровню FWHM), на расстоянии 0.5 м от выходной апертуры | 12 ± 1 мм высота 4 ± 0.5 мм ширина |
| Расходимость лазерного излучения (по уровню FWHM) | < 3.5 мрад высота < 1.5 мрад ширина |
| Степень поляризации излучения | > 95% |
| Время готовности лазера к работе | < 10 мин |
| Вес | 132 кг |
| Габариты (Д х Ш х В) | 1025 × 450 × 610 мм |
Спектроскопия
Интерференционная картина после эталона Фабри-Перо (база 5 мм) в фокальной плоскости линзы (F=104 см), а также ее профили в двух направлениях. Ширина линии генерации лазера рассчитывается как менее 3 пм
Профиль лазерного пучка лазера OLS 100K