ОЛС100К

OLS100K

Узкополосный эксимерный лазер для проекционной фотолитографии

248.4нм

Длина волны

< 3пм

Ширина спектра излучения

< 6пм

Ширина спектра излучения

< 3%

Относительная нестабильность энергии импульсов

11–13мм

Размеры выходного пятна излучения, высота

3.5–4.5мм

Размеры выходного пятна излучения, ширина

> 95%

Степень поляризации излучения

< 10мин

Время готовности лазера к работе

Безмасочная литография

Ключевые особенности

Длина волны	248.4нм
Частота следования импульсов	0 – 1000Гц
Максимальная энергия	5мДж
Стабильность энергии импульса, Sigma	< 3%
Расходимость(FWHM, V х H)	3.5 x 1.5мрад
Длительность импульса(FWHM)	7 – 12нс
Ширина спектра излученияпо уровню FWHM	< 3пм
Ширина спектра излученияпо уровню 10%	< 6пм
Относительная нестабильность энергии импульсовсигма по выборке 1000 импульсов	< 3%
Размеры выходного пятна излучения, высота(по уровню FWHM), на расстоянии 0.5 м от выходной апертуры	12 ± 1мм
Размеры выходного пятна излучения, ширина(по уровню FWHM), на расстоянии 0.5 м от выходной апертуры	4 ± 0.5мм
Степень поляризации излучения	> 95%
Время готовности лазера к работе	< 10мин
Габариты(Д х Ш х В)	1025 × 450 × 610мм
Вес	132кг