Эксимерные лазеры

СЛ5000

CL5000

Компактный высокочастотный эксимерный лазер

193, 248нм

Длина волны

Производство брэгговских решетокОбработка метериаловБезмасочная литографияЛазерная коррекция зрения

Ключевые особенности

Высокая пространственная стабильность лазерного пучка
Высокая угловая стабильность лазерного пучка
Высокая частота следования импульсов
Твердотельный коммутатор
Компактный эксимерный лазер
Встроенный безмасляный вакуумный насос и газовый фильтр
Встроенный датчик энергии импульсов
Стабилизация выходной энергии

Характеристики

Длина волны, нм

Всего вариантов: 8


Длина волны	193нм	248нм	193нм	248нм	193нм	248нм	193нм	248нм
Частота следования импульсов	100Гц		500Гц		1000Гц		2000Гц
Энергия импульса в режиме стабилизации	15мДж	25мДж	10мДж	20мДж	10мДж	20мДж	4мДж	6мДж
Средняя мощность в режиме стабилизации	1.5Вт	2.5Вт	5Вт	10Вт		20Вт	8Вт	12Вт
Стабильность энергии импульса, Sigma	< 2%
Размер пучка	(12±0.5) x (4±0.5)мм		(12±0.5) x (3±0.5)мм				(8±0.5) x (3±0.5)мм
Расходимость	3x1мрад						2x1мрад
Длительность импульса	13±1 нс		12±1 нс				8±1нс
Охлаждение	воздушное		водяное
Электрическое питание	220 В, 50 Гц, < 2500 ВА
Габариты	890 х 340 х 460мм
Вес	85кг

Смежные продукты

СЛ7000

CL7000

Эксимерный лазер для научных и производственных задач

СЛ7000 ФБГ

CL7000 FBG

Эксимерный лазер для производства волоконных брэгговских решеток

СЛ7700

CL7700

Эксимерный лазер с увеличенной энергией импульса

СЛ7308

CL7308

Специализированный эксимерный лазер с увеличенной длительностью импульса

СЛ7500

CL7500

Эксимерная лазерная система с узкой линией генерации и высокой пространственной когерентностью

ДС4000

DC4000

Высокочастотный эксимерный лазер для технологий микроэлектроники

7X300

7X300

Индустриальный эксимерный лазер с высокой энергией импульса и высокой средней мощностью

ОЛС100К

OLS100K

Узкополосный эксимерный лазер для проекционной фотолитографии